Hva er et MOCVD-system?

MOCVD, kjent som Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), er en teknikk for å dyrke tynne halvlederfilmer på et underlag. Med MOCVD kan mange nanolag avsettes med stor presisjon, hver med en kontrollert tykkelse, for å danne materialer med spesifikke optiske og elektriske egenskaper.

Et MOCVD-system er en type kjemisk dampavsetning (CVD) system som bruker metallorganiske forløpere for å avsette tynne filmer av materiale på et underlag. Systemet består av et reaktorkar, et gassleveringssystem, en substratholder og et temperaturkontrollsystem. De organiske metallforløperne introduseres i reaktorbeholderen sammen med en bæregass, og temperaturen kontrolleres nøye for å sikre veksten av en tynn film av høy kvalitet.

Bruken av MOCVD har flere fordeler i forhold til andre avsetningsteknikker. En fordel er at det tillater avsetning av komplekse materialer med presis kontroll over tykkelsen og sammensetningen av de tynne filmene. Dette er spesielt viktig for produksjon av høyytelses halvlederenheter, hvor materialegenskapene til de tynne filmene kan ha en betydelig innvirkning på enhetens ytelse.

En annen fordel med MOCVD er at den kan brukes til å avsette tynne filmer på en rekke underlag, inkludert silisium, safir og galliumarsenid. Denne fleksibiliteten gjør det til en viktig prosess i produksjonen av et bredt spekter av halvlederenheter, fra databrikker til lysdioder.

MOCVD-systemer er mye brukt i halvlederindustrien, og de har vært medvirkende til utviklingen av mange avanserte teknologier. For eksempel har MOCVD blitt brukt til å produsere høyeffektive LED-er for belysnings- og displayapplikasjoner, samt høyytelses solceller for solcelleapplikasjoner.