CVD-ovner som brukes til prosessen med kjemisk dampavsetning (CVD). Kjemisk dampavsetning er en prosess der en tynn film avsettes på et substrat ved hjelp av en kjemisk reaksjon mellom fordampede forløpergasser og en oppvarmet overflate.
CVD-ovner består typisk av et vakuumkammer, et gassleveringssystem, et varmesystem og en substratholder. Vakuumkammeret brukes til å fjerne luft og andre gasser fra avsetningsmiljøet for å forhindre at urenheter forstyrrer avsetningsprosessen. Gassleveringssystemet leverer forløpergassene til substratoverflaten hvor de reagerer for å danne den ønskede tynne filmen. Varmesystemet varmer opp underlaget til ønsket temperatur for at reaksjonen skal skje. Substratholderen brukes til å holde substratet på plass under avsetningsprosessen.
I CVD-prosessen føres forløpergassene inn i vakuumkammeret og varmes opp til en temperatur hvor de brytes ned og reagerer for å danne en tynn film på det oppvarmede substratet. Temperaturen og trykket i avsetningsmiljøet kontrolleres nøye for å sikre at de ønskede filmegenskapene oppnås.
CVD-ovner er mye brukt i halvlederindustrien for å avsette tynne filmer for fremstilling av mikroelektroniske enheter, som integrerte kretser og solceller. De brukes også i produksjon av avanserte materialer, som belegg, optiske fibre og superledere.
Semicorex CVD Chemical Vapor Deposition-ovner gjør produksjonen av høykvalitets epitaksi mer effektiv. Vi tilbyr skreddersydde ovnsløsninger. Våre CVD Chemical Vapor Deposition-ovner har en god prisfordel og dekker det meste av det europeiske og amerikanske markedet. Vi ser frem til å bli din langsiktige partner i Kina.
Les merSend forespørselSemicorex er en storskala produsent og leverandør av silisiumkarbidbelagte produkter i Kina. Vi tilbyr skreddersydde ovnsløsninger. Vår CVD- og CVI-vakuumovn har en god prisfordel og dekker mange av de europeiske og amerikanske markedene. Vi ser frem til å bli din langsiktige partner.
Les merSend forespørsel