Alumina keramisk endeffektor

Semicorex aluminiumoksyd keramisk endeffektor er et essensielt verktøy i automatiserte skiveoverføringssystemer, og tilbyr uovertruffen mekanisk styrke, termisk stabilitet og kjemisk motstand. Produsert med høy renhetaluminiumoksyd (al₂o₃) keramikk, Denne endeffekten er konstruert for å oppfylle de strenge kravene til skiveforedlingsmiljøer, der presisjon, renslighet og holdbarhet er avgjørende.

Semiconductor robotarmer er en av de viktige delene av halvlederutstyr. De er vanligvis sammensatt av kontrollere, drivere, armer og endeffektorer. De er preget av høy renslighet, høy stabilitet, høy presisjon, høy effektivitet og høy pålitelighet. Halvlederroboter brukes hovedsakelig i frontend-prosessen med halvlederproduksjon for å bære, transportere og posisjonere halvlederskiver.

Den keramiske strukturen som har aluminiumoksydinnhold vanligvis større enn 99,5%, vil gi overlegen hardhet og slitasje motstand for gjentatte bevegelser i miljøer med høy presisjon uten nedbrytning over tid. Den høye termiske konduktiviteten og lav termisk ekspansjon av aluminiumoksyd gir dimensjonsstabilitet i miljøer med forhøyet temperatur, en nødvendighet i de fleste rentromsoperasjoner i halvledere, for eksempel i en etker, innskudd, inspeksjon eller rengjøringsverktøy.

Dealuminiumoksyd keramikkSlutteffektoren har en bemerkelsesverdig karakteristisk overflatefinish som er jevn og har lav porøsitet, noe som gjør den nær null partikler generert og minimering eller null effekt på forurensninger under håndtering av skive. I tillegg er aluminiumoksyd kjemisk inert. Dette betyr at den ikke vil reagere med noen av prosessgassene og eventuelle prosessvæsker som skiven er i kontakt med. Dette beskytter skiven og eventuell forurensning for seg selv og utstyr mot alt som kan forårsake korrosjon.

De brukes vanligvis som endeffektorer, eller en klemmemekanisme, for robotarmer eller overføringsmoduler i skivefabrikasjonsutstyr og utstyr som et etker eller avsetningsverktøy, inspeksjon eller rengjøringsverktøy med presise spor, spor eller vakuumkanaler som fanger den faktiske skivestørrelsen, enten det er 100 mm, 200 mm eller 300 mm og overføring av wafers og capturing for for å fange for. Slutteffektene vil typisk håndtere skiveoverføringshastigheter ved 25 cm/sekund.

Tilpasningsalternativer eksisterer i retning av designet for spesifikke utstyrsgrensesnitt eller skivestørrelser. Den strukturelle stivheten til aluminiumoksyd gir tynne og lette profiler som minimerer håndteringssystemets generelle masse og fører til raskere responstider. Noen konfigurasjoner kan også legge til antistatiske eller isolerende komponenter for å gi ytterligere beskyttelse til de sensitive elektroniske underlagene.

Totalt sett gir aluminiumoksyden keramisk endeffektor en effektiv løsning som fremmer forbedret utbytte og redusert forurensning, der operasjonell pålitelighet er viktige elementer for wafer -prosesseringslinjen. Med sine holdbarhet og fysiske ytelsesegenskaper, skiller den effektive og kostnadseffektive aluminiumoksydekeramiske endeffekten seg som et populært valg blant produsenter av halvlederutstyr og fabs som krever strenge produksjonsstandarder i et ultra-rent miljø.