Keramisk chuck av aluminiumnitrid

Aluminium Nitride Ceramic Chuck representerer en banebrytende løsning for prosessering av halvlederwafer, spesielt designet for å holde wafere sikkert på plass under ulike stadier av produksjonen. Denne innovative enheten fungerer som en elektrostatisk chuck (ESC), og utnytter de eksepsjonelle egenskapene til aluminiumnitridkeramikk for å sikre presis og pålitelig oppbevaring av wafer.

Semicorex Aluminium Nitride Ceramic Chuck bruker elektrostatiske krefter for å gripe waferen fast på overflaten. Dette oppnås gjennom en omhyggelig konstruert plate med integrerte elektroder, som er strategisk forspent med høy spenning. Som et resultat etableres en elektrostatisk holdekraft mellom platen og skiven, som effektivt immobiliserer skiven på plass gjennom prosesseringstrinnene.

En av de fremtredende egenskapene til aluminiumnitrid keramisk chuck er dens bemerkelsesverdige kombinasjon av høy varmeledningsevne og isolasjonsegenskaper. Denne unike blandingen av egenskaper gjør den til et ideelt materialvalg for ESC-applikasjoner. Den høye varmeledningsevnen sikrer effektiv varmespredning, avgjørende for å opprettholde jevn temperaturfordeling over skiven under prosessering. Samtidig gir dens eksepsjonelle isolasjonsegenskaper elektrisk isolasjon mellom chucken og waferen, og minimerer risikoen for elektrisk interferens eller skade på sensitive halvlederkomponenter.

Aluminium Nitride Keramikk Chuck tilbyr flere fordeler i forhold til tradisjonelle chuck materialer. Dens robuste konstruksjon sikrer langsiktig holdbarhet, i stand til å motstå de strenge kravene fra halvlederproduksjonsmiljøer. I tillegg gjør dens kompatibilitet med høytemperaturprosesser og motstand mot termisk ekspansjon det til et uunnværlig verktøy for å oppnå konsistente og høykvalitets waferbehandlingsresultater.