Elektrostatisk chuck

Ved å bruke keramikk av aluminiumoksyd med høy renhet, leverer Semicorex Electrostatic Chuck førsteklasses ytelse i innstillinger som prioriterer presisjon, stabilitet og renslighet. Alumina, også kjent som aluminiumoksid (Al2O3), er et keramisk materiale kjent for sine eksepsjonelle elektriske isolasjonsegenskaper, høy varmeledningsevne og enestående mekanisk styrke. Disse egenskapene gjør det til et ideelt materiale for å konstruere en elektrostatisk chuck, designet for å tåle de krevende forholdene ved halvlederbehandling. Den keramiske aluminiumoksyd-ESC-en er konstruert for å tåle høye temperaturer, korrosive miljøer og mekanisk påkjenning under håndtering og prosessering av wafer, og spiller en avgjørende rolle for å sikre utbyttet og kvaliteten til halvlederenheter.

Det grunnleggende prinsippet bak den elektrostatiske chucken er elektrostatisk kraft, som brukes til å holde waferen sikkert på plass. Denne kraften genereres ved å påføre en spenning til elektrodene innebygd i det keramiske materialet. Samspillet mellom det elektrostatiske feltet og de induserte ladningene på waferoverflaten skaper en sterk klemkraft som holder waferen mot chuckens overflate. Utformingen av den alumina keramiske ESC sikrer at denne klemkraften er jevnt fordelt over skiven, og minimerer risikoen for glidning eller skade under bearbeiding.

En av de viktigste fordelene ved å bruke alumina-keramikk i elektrostatisk chuck-konstruksjon er dens eksepsjonelle elektriske isolerende egenskaper. Aluminas høye dielektriske styrke tillater bruk av høye spenninger uten risiko for elektrisk sammenbrudd, avgjørende for å opprettholde integriteten til det elektrostatiske feltet. Dette er spesielt viktig i prosesser som plasmaetsing eller kjemisk dampavsetning, der waferen utsettes for svært reaktive miljøer og enhver variasjon i klemkraft kan resultere i defekter eller skade på waferen.

I tillegg til sine elektriske egenskaper, viser alumina keramikk utmerket termisk ledningsevne, avgjørende for å håndtere varmen som genereres under halvlederbehandling. Den elektrostatiske chuckens evne til effektivt å spre varme bidrar til å opprettholde en stabil temperatur over skiven, og reduserer termiske gradienter som kan føre til vridning eller andre former for termisk stress. Denne termiske stabiliteten er avgjørende for å sikre presisjonen og repeterbarheten til prosesser som fotolitografi, der selv små temperaturavvik kan påvirke resultatet.