Fused Quartz Ring

Applikasjonene til Semicorex Fused Quartz Ring i Semiconductor Etching

Halvlederetsingsprosessen er et avgjørende trinn i fremstillingen av halvlederenheter. Under etsing fjernes spesifikke områder av waferen selektivt for å lage intrikate mønstre. Denne prosessen krever materialer som tåler ekstreme forhold og gir jevn ytelse. Fused Quartz Ring er konstruert for å møte disse strenge kravene, og sikrer at etseprosessen er presis, effektiv og pålitelig.

Fordeler med Semicorex Fused Quartz Ring

1. Eksepsjonell renhet

Renheten til SiO2 i Fused Quartz Ring er en av dens viktigste fordeler. Med renhetsnivåer som varierer fra 99,995 % til 99,999 %, sikrer Fused Quartz Ring minimal forurensning og høykvalitets etseresultater. Denne høye renheten er avgjørende i halvlederproduksjon, der selv de minste urenheter kan påvirke ytelsen og påliteligheten til sluttproduktet.

2. Overlegen termisk stabilitet

Fused Quartz Ring er designet for å tåle ekstreme temperaturer, med en driftstemperatur på opptil 1250°C og en mykningstemperatur på 1730°C. Denne høye termiske stabiliteten gjør at Fused Quartz-ringen opprettholder sin strukturelle integritet og ytelse under de intense varmeforholdene som vanligvis oppstår i etseprosessen.

3. Lav ekspansjonskoeffisient

Den ekstremt lave ekspansjonskoeffisienten til Fused Quartz Ring gjør den svært motstandsdyktig mot termisk sjokk. Denne egenskapen er avgjørende i etseprosessen, hvor raske temperaturendringer kan forekomme. Den lave ekspansjonskoeffisienten sikrer at Fused Quartz Ring forblir stabil og pålitelig, noe som reduserer risikoen for sprekker og andre termiske spenningsrelaterte problemer.

4. Kjemisk motstand

Fused Quartz Ring viser utmerket motstand mot syrer og alkalier. Denne kjemiske motstanden sikrer at Fused Quartz-ringen tåler de tøffe forholdene under etseprosessen, og opprettholder ytelsen og holdbarheten over lengre perioder.

5. Mikroboblefri og lavt hydroksylinnhold

Fraværet av mikrobobler og lavt hydroksylinnhold i Fused Quartz Ring sikrer at de gir konsistent og pålitelig ytelse. Mikrobobler og høyt hydroksylinnhold kan føre til defekter og forurensning i etseprosessen, noe som påvirker kvaliteten og påliteligheten til sluttproduktet.

6. Lav termisk ledningsevne og dielektrisk konstant

Fused Quartz Ring har svært lav termisk ledningsevne og dielektrisitetskonstant, samt den laveste tapstangensen av nesten alle kjente materialer. Den lave varmeledningsevnen bidrar til å spre varme effektivt, og reduserer risikoen for termisk skade på waferen. Den lave dielektrisitetskonstanten og tapstangensen sikrer at kvartsringene våre gir utmerket elektrisk isolasjon, reduserer risikoen for elektrisk interferens og forbedrer den generelle effektiviteten til etseprosessen.