En kort introduksjon til dummy wafers

Avansert halvlederproduksjon består av flere prosesstrinn, inkludert tynnfilmavsetning, fotolitografi, etsing, ioneimplantasjon, kjemisk mekanisk polering. Under denne prosessen kan selv små feil i prosessen ha en skadelig effekt på ytelsen og påliteligheten til de endelige halvlederbrikkene. Derfor er det en betydelig utfordring å opprettholde prosessstabilitet og konsistens, samt å gjennomføre effektiv utstyrsovervåking. Dummy wafere er avgjørende verktøy som hjelper til med å takle disse utfordringene.

Dummy wafere er wafere som ikke har faktiske kretser og som ikke brukes i den endelige brikkeproduksjonsprosessen. Disseoblaterkan være helt nye testwafere av lavere kvalitet eller gjenvunnede wafere. Forskjellig fra dyre produktwafere som brukes til å produsere integrerte kretser, brukes de vanligvis til forskjellige ikke-produksjonsrelaterte som er avgjørende for halvlederproduksjon.

Bruk av dummy oblater

1. Prosess kvalifisering og tuning

Dummy wafere brukes ofte til testing før disse situasjonene for å sikre prosessstabilitet og utstyrsytelse, for eksempel før igangkjøring av nytt prosessutstyr, etter vedlikehold eller komponentutskifting av eksisterende utstyr, og under utvikling av nye prosessoppskrifter. Verifisering av utstyrsytelse og presis justering av prosessparametere kan fullføres med suksess ved å analysere prosesseringsresultatene på dummy-wafere, noe som effektivt reduserer tapet av produktwafere og reduserer produksjonskostnadene for bedrifter.

2. Utstyrskondisjonering og oppvarming

Kammermiljøet til mange halvlederprosessutstyr (f.eks. utstyr for kjemisk dampavsetning (CVD), utstyr for fysisk dampavsetning (PVD) og etsemaskiner) har en betydelig innvirkning på prosesseringsresultatene. For eksempel må beleggstatus og temperaturfordeling på de indre veggene av kammeret nå en stabil tilstand. Dummy wafere brukes ofte til å kondisjonere prosesskamrene og stabilisere det indre miljøet (f.eks. temperatur, kjemisk atmosfære og overflatestatus) i kamrene, noe som effektivt forhindrer prosessavvik eller defekter i den første batchen av produktwafere forårsaket av at utstyret ikke fungerer i optimal tilstand.

3.Partikkelovervåking og forurensningskontroll

Halvlederproduksjon har ekstremt høye krav til renslighet; selv små partikkelforurensninger kan føre til chipfeil. Ved å undersøke partiklene som fester seg til overflaten av dummyplatene som mates inn i utstyret, kan renheten til utstyret evalueres. Dermed kan produktwafere med hell beskyttes mot forurensning ved raskt å identifisere mulige forurensningskilder og sette rengjørings- eller vedlikeholdsprosedyrer på plass.

4.Spaltefylling for batchenhet

For å oppnå gasstrømmen, temperaturfordelingen og reaktantkonsentrasjonen i prosesskammeret, er full-belastningsdrift vanlig praksis i batchbehandlingsutstyr som diffusjonsovner, oksidasjonsovner eller våtrengjøringstanker. Dummy wafere brukes til å fylle de tomme sporene i waferbåten som ikke har et tilstrekkelig antall produktwafere, noe som kan redusere kanteffekten og sikre konsistente behandlingsforhold for alle produktwafere, spesielt for de som er plassert ved kantene av waferbåten.

5. Stabilisering av prosesser for kjemisk mekanisk polering (CMP).

Dummy wafere kan også brukes i forbehandlingsstadiet av CMP-prosessen for å opprettholde prosessstabilitet. Pre-run testing med dummy wafere optimaliserer grovheten og porøsiteten til poleringsputen, minimerer prosessusikkerhet under oppstartsstabiliseringsfasen eller overgangsfasen før avstengning, og reduserer waferriper og defekter forårsaket av unormal slurrytilførsel og hodemembranslitasje.

Semicorex tilbyr kostnadseffektiveSiC dummy wafere. Hvis du har spørsmål eller trenger ytterligere detaljer, ikke nøl med å ta kontakt med oss.

Kontakt telefonnummer +86-13567891907

E-post: sales@semicorex.com