I halvlederindustrien spiller epitaksiale lag en avgjørende rolle ved å danne spesifikke enkrystall tynne filmer på toppen av et wafersubstrat, samlet kjent som epitaksiale wafere. Spesielt silisiumkarbid (SiC) epitaksiale lag dyrket på ledende SiC-substrater produserer homogene SiC-epitaksiale wafe......
Les merFor tiden bruker de fleste SiC-substratprodusenter en ny termisk feltprosessdesign for digel med porøse grafittsylindere: Plassering av høyrente SiC-partikkelråmaterialer mellom grafittdigelens vegg og den porøse grafittsylinderen, mens hele digelen utdypes og digeldiameteren økes.
Les merEpitaksial vekst refererer til prosessen med å dyrke et krystallografisk velordnet monokrystallinsk lag på et substrat. Generelt sett involverer epitaksial vekst dyrking av et krystalllag på et enkeltkrystallsubstrat, med det dyrkede laget som deler samme krystallografiske orientering som det opprin......
Les merChemical Vapor Deposition (CVD) refererer til en prosessteknologi der flere gassformige reaktanter ved varierte partialtrykk gjennomgår en kjemisk reaksjon under spesifikke temperatur- og trykkforhold. Det resulterende faste stoffet avsettes på overflaten av substratmaterialet, og oppnår derved den ......
Les merEttersom den globale aksepten av elektriske kjøretøy gradvis øker, vil silisiumkarbid (SiC) møte nye vekstmuligheter i det kommende tiåret. Det forventes at produsenter av krafthalvledere og operatører i bilindustrien vil delta mer aktivt i byggingen av denne sektorens verdikjede.
Les mer