Semicorex SiC Coated Graphite Base Susceptors for MOCVD er bærere av overlegen kvalitet som brukes i halvlederindustrien. Produktet vårt er designet med høykvalitets silisiumkarbid som gir utmerket ytelse og langvarig holdbarhet. Denne bæreren er ideell for bruk i prosessen med å dyrke et epitaksielt lag på wafer-brikken.
Les merSend forespørselSemicorex SiC Graphite RTP Carrier Plate for MOCVD tilbyr overlegen varmebestandighet og termisk ensartethet, noe som gjør den til den perfekte løsningen for behandling av halvlederskiver. Med en SiC-belagt grafitt av høy kvalitet, er dette produktet konstruert for å tåle de tøffeste avsetningsmiljøene for epitaksial vekst. Den høye varmeledningsevnen og utmerkede varmefordelingsegenskapene sikrer pålitelig ytelse for RTA, RTP eller hard kjemisk rengjøring.
Les merSend forespørselSemicorex SiC-belagt RTP-bærerplate for epitaksial vekst er den perfekte løsningen for behandling av halvlederskiver. Med sine høykvalitets karbongrafitt-susceptorer og kvartsdigler behandlet av MOCVD på overflaten av grafitt, keramikk, etc., er dette produktet ideelt for waferhåndtering og epitaksial vekstbehandling. Den SiC-belagte bæreren sikrer høy varmeledningsevne og utmerkede varmefordelingsegenskaper, noe som gjør den til et pålitelig valg for RTA, RTP eller hard kjemisk rengjøring.
Les merSend forespørselSemicorex RTP Carrier for MOCVD Epitaxial Growth er ideell for prosessering av halvlederwafere, inkludert epitaksial vekst og prosessering av waferhåndtering. Karbongrafittsusceptorer og kvartsdigler behandles av MOCVD på overflaten av grafitt, keramikk osv. Våre produkter har en god prisfordel og dekker mange av de europeiske og amerikanske markedene. Vi ser frem til å bli din langsiktige partner i Kina.
Les merSend forespørselLeter du etter en pålitelig waferbærer for etseprosesser? Se ikke lenger enn Semicorex sin silisiumkarbid ICP Etching Carrier. Produktet vårt er konstruert for å tåle høye temperaturer og hard kjemisk rengjøring, noe som sikrer holdbarhet og lang levetid. Med en ren og glatt overflate er bæreren vår perfekt for håndtering av uberørte oblater.
Les merSend forespørselSemicorex sin SiC-plate for ICP-etsingsprosess er den perfekte løsningen for høye temperaturer og tøffe krav til kjemisk prosessering i tynnfilmavsetning og waferhåndtering. Produktet vårt har overlegen varmebestandighet og jevn termisk jevnhet, noe som sikrer konsistent epi-lagtykkelse og motstand. Med en ren og glatt overflate gir vårt høyrente SiC-krystallbelegg optimal håndtering av uberørte wafere.
Les merSend forespørsel