Semicorex sin SiC-belagte bærer for ICP Plasma Etching System er en pålitelig og kostnadseffektiv løsning for høytemperatur-waferhåndteringsprosesser som epitaksi og MOCVD. Våre bærere har et fint SiC-krystallbelegg som gir overlegen varmebestandighet, jevn termisk jevnhet og holdbar kjemisk motstand.
Les merSend forespørselSemicorex sin waferholder for ICP Etching Process er det perfekte valget for krevende waferhåndtering og tynnfilmavsetningsprosesser. Produktet vårt har overlegen varme- og korrosjonsmotstand, jevn termisk jevnhet og optimale laminære gassstrømningsmønstre for konsistente og pålitelige resultater.
Les merSend forespørselSemicorex's Silicon Etch Plate for PSS Etching Applications er en høykvalitets, ultraren grafittbærer som er spesielt utviklet for epitaksial vekst og waferhåndteringsprosesser. Vår transportør tåler tøffe miljøer, høye temperaturer og hard kjemisk rengjøring. Silisiumetseplaten for PSS-etseapplikasjoner har utmerkede varmefordelingsegenskaper, høy varmeledningsevne og er kostnadseffektiv. Våre produkter er mye brukt i mange europeiske og amerikanske markeder, og vi ser frem til å bli din langsiktige partner i Kina.
Les merSend forespørsel