8 tommers epi toppring

Semicorex 8 -tommers EPI -toppring er en spesialisert komponent i avsetningssystemer for epitaksial (EPI) som gir høy ytelse som toppdekselring på reaksjonskammeret. Med fokus på strukturell integritet og termisk stabilitet under epitaksial vekst av halvlederskiver, er EPI-toppringen laget av grafitt med høy renhet og belagt med silisiumkarbid (SIC) for å motstå temperaturen og kjemisk reaktive miljøer for halvlederproduksjon.

I epitaksiale reaktorer hjelper toppringen til å beholde skivemiljøet og spiller en viktig rolle i temperaturenheten og gasstrømmen under deponering som en del av masceptormonteringen. SIC -belegget på grafittunderlaget gir EPI -toppringen med den termiske stabiliteten og det inerte miljøet som kreves for å beskytte grafittkjernen på grunn av eksponering for prosessene gasser under ytelsen til EPI -toppringen (hydrogen, silan, klorosilaner, etc.). Hardheten og konduktiviteten til SIC -laget forbedrer ytelsen til EPI -toppringen ved å forhindre nedbrytning og gi mulighet for mer stabile lag gjennom produksjonssyklusen.

Med en forpliktelse til dimensjonal nøyaktighet, beleggskonsistens og repeterbarhet er 8 -tommers EPI -toppring produsert med presisjonsteknikk. Grafittunderlaget er maskinert til tette toleranser og renset termisk til å skille urenheter, og leverer et rent underlag med utmerket renhet og styrke. SIC -belegget påføres gjennom kjemisk dampavsetning (CVD), for å danne et tett, konsistent og sterkt bundet beskyttende lag. Denne prosessen minimerer partikkelgenerering og lar belegget opprettholde overflateintegriteten under utvidet bruk.

Produsenter av halvleder er avhengige av EPI-toppring for å opprettholde kritiske kammerparametere og støtte defektfrie skiver under produksjonen. Konfigurasjonen er designet for bruk med ledende OEM 8-tommers Wafer-prosesseringssystemer. Tilpassede alternativer er tilgjengelige for tykkelse, overflatebehandling og rillede design for bedre termisk styring eller til og med gassfordeling.

I samsvar med egenskapene til den SIC -belagte grafitten for denne applikasjonen tar kombinasjon det beste av egenskaper fra begge materialene; Grafitt er veldig maskinbar og har termisk støtmotstand kombinert med silisiumkarbid som er vanskeligere, korrosjonsbestandig og har lengre levetid. Denne kombinasjonen gir deg til slutt en EPI -toppring som er pålitelig ved høy temperatur, og garanterer et rent og stabilt prosesseringsmiljø som reduserer vedlikeholdsintervaller, og gir generell forbedret oppetid på utstyret.

Grafittkomponenter spiller en uunnværlig og avgjørende rolle i halvlederproduksjon. Kvaliteten på grafittmaterialet påvirker kvaliteten på det ferdige produktet betydelig. Vår grafittbatch -konsistens og materialhomogenitet kontrolleres og garanteres gjennom hele produksjonsprosessen.

1.Small-batch-produksjon, ved bruk av en liten karboniseringsovn med en kapasitet på bare 50 kubikkmeter.

2. Hvert stykke materiale overvåkes og sporet.

3. Temperaturovervåking på flere punkter i ovnen sikrer minimale temperaturforskjeller.

4. Temperaturovervåking på flere punkter på materialet sikrer minimale temperaturforskjeller.

Den 8-tommers EPI-toppringen av Semicorex tilbyr eksepsjonell ytelse, konsistens fra batch-til-batch og bevist pålitelighet i de vanskeligste halvledere silisium, silisiumkarbid eller andre sammensatte halvlederpitaksiprosesser. På hvert produksjonstrinn produserer vi produkter med kvalitetskontroll, noe som betyr at hvert produkt som er kjøpt for halvlederindustrien overstiger kvalitetsspesifikasjoner.

Velg Semicorexs 8-tommers Epi Top Ring for din Epitaxy-applikasjon for å dra nytte av muligheter som tilbys gjennom presisjonsteknikk, overlegne materialer og applikasjonsspesifikk tilpasning for å forbedre utbytte og enhetsytelse.