Aln ovner

Semicorex Aln -varmeovner for halvleder er en enhet som brukes til å varme opp halvledermaterialer. Det er hovedsakelig laget avAluminiumnitrid keramikkmateriale, har utmerket termisk ledningsevne og høye temperaturmotstand, og kan fungere stabilt ved høye temperaturer. Varmeapparatet bruker vanligvis en motstandstråd som et varmeelement. Ved å gi energi til motstandstråden for å varme opp, overføres varmen til overflaten av varmeren for å oppnå oppvarming av halvledermaterialet. Aln -varmeovner for halvleder spiller en viktig rolle i halvlederproduksjonsprosessen og kan brukes i prosesser som krystallvekst, annealing og baking.

I frontend-prosessen (FeOL) for halvlederproduksjon, må det utføres forskjellige prosessbehandlinger på skiven, spesielt oppvarming av skiven til en viss temperatur, og det er strenge krav, fordi temperaturens enhetlighet har en veldig viktig innflytelse på produktutbyttet; Samtidig må halvlederutstyr også fungere i et miljø der vakuum, plasma og kjemiske gasser eksisterer, noe som krever bruk av keramiske varmeovner (keramisk varmeovn). Keramiske varmeovner er viktige komponenter i halvleder tynn filmavsetningsutstyr. De brukes i prosesskammeret og kontakter direkte skiven for å bære og gjøre det mulig for skiven å oppnå en stabil og ensartet prosesstemperatur og for å reagere og generere tynne filmer på skiven med høy presisjon.

Tynn filmavsetningsutstyr for keramiske varmeovner bruker generelt keramiske materialer basert påAluminiumnitrid (ALN)På grunn av de høye temperaturene som er involvert. Aluminiumnitrid har elektrisk isolasjon og utmerket termisk ledningsevne; I tillegg er den termiske ekspansjonskoeffisienten nær silisium, og den har utmerket plasmavistens, noe som gjør den veldig egnet for bruk som halvlederenhetskomponent.

ALN -varmeovner inkluderer en keramisk base som bærer skiven, og et sylindrisk støttekropp som støtter det på baksiden. Inne eller på overflaten av den keramiske basen, i tillegg til et motstandselement (oppvarmingslag) for oppvarming, er det også en RF -elektrode (RF -lag). For å oppnå rask oppvarming og avkjøling, skal tykkelsen på den keramiske basen være tynn, men for tynn vil også redusere stivhet. Støttekroppen til ALN -varmeovnene er vanligvis laget av et materiale med en termisk ekspansjonskoeffisient som ligner på basen, slik at støttekroppen ofte også er laget av aluminiumnitrid. Aln -varmeovnene tar i bruk en unik struktur av en aksel (aksel) ledd for å beskytte terminalene og ledningene fra effekten av plasma og etsende kjemiske gasser. Et varmeoverføringsgassinntak og utløpsrør er gitt i støttekroppen for å sikre ensartet temperatur på varmeren. Basen og støttekroppen er kjemisk bundet med et bindingslag.

Et motstandsvarmeelement blir begravet i varmeapparatet. Det dannes ved skjermutskrift med ledende pasta (wolfram, molybden eller tantal) for å danne et spiral eller konsentrisk sirkelkretsmønster. Selvfølgelig kan metalltråd, metallnett, metallfolie osv. Også brukes. Når du bruker skjermutskriftsmetoden, blir to keramiske plater med samme form fremstilt, og den ledende pastaen påføres overflaten til en av dem. Deretter er det sintret for å danne et resistivt varmeelement, og den andre keramiske platen overlappes med det resistive varmeelementet for å lage et motstandselement begravet i basen.

Hovedfaktorene som påvirker den termiske ledningsevnen til aluminiumnitridkeramikk er tettheten av gitteret, oksygeninnhold, pulverrenhet, mikrostruktur, etc., som vil påvirke den termiske ledningsevnen til aluminiumnitridkeramikk.