Rengjøringstank

Semicorex rensetank er laget av høykvalitets kvarts, tilbyr uovertruffen ytelse og pålitelighet, og sikrer at halvlederskiver blir grundig rengjort og fri for forurensninger som kan kompromittere deres integritet.

Kvarts er valgt for konstruksjonen av rensetanken på grunn av dens eksepsjonelle kjemiske motstand og termiske stabilitet. Kvartsrensetank motstår de sterke kjemikaliene som vanligvis brukes i rengjøringsprosesser, som flussyre og andre sterke etsemidler. Dens termiske stabilitet sikrer at den kan motstå de høye temperaturene som ofte kreves i halvlederbehandling uten å deformeres eller forringes, og opprettholder dens strukturelle integritet og ytelse over lange perioder.

Utformingen av rensetanken er omhyggelig konstruert for å optimere renseprosessen. Det glatte, sømløse interiøret minimerer partikkelgenerering og forhindrer akkumulering av forurensninger. Rensetanken er designet for å imøtekomme ulike rengjøringsmetoder, inkludert kjemiske bad, ultralydrengjøring og megasonisk rengjøring. Hver metode har sine spesifikke fordeler, og allsidigheten til rengjøringstanken gjør at den kan brukes i flere stadier av renseprosessen, fra innledende waferrengjøring til endelig skylling og tørking.

I kjemiske bad sørger rensetanken for at wafere blir jevnt utsatt for rengjøringsløsninger, noe som fremmer konsekvent og grundig rengjøring. Ensartet eksponering er avgjørende for å fjerne partikler, organiske rester og metalliske forurensninger fra waferoverflaten. Ved ultralyd- og megasonisk rengjøring skaper høyfrekvente lydbølger mikroskopiske kavitasjonsbobler i rengjøringsløsningen. Når disse boblene kollapser, genererer de kraftige sjokkbølger som løsner og fjerner forurensninger fra waferoverflaten. Rensetankens robuste kvartskonstruksjon tåler de intense forholdene som genereres av disse rengjøringsmetodene, og sikrer langsiktig holdbarhet og effektivitet.