CVD TaC beleggdeksel

Semicorex CVD TaC Coating Cover har en imponerende hardhet, som vanligvis når 2500-3000 HV på Vickers-skalaen. Denne eksepsjonelle hardheten stammer fra de utrolig sterke kovalente bindingene mellom tantal og karbonatomer, og danner en tett, ugjennomtrengelig barriere mot slitasje og mekanisk deformasjon. Rent praktisk betyr dette verktøy og komponenter som holder seg skarpere lenger, opprettholder CVD TaC Coating Covers dimensjonale nøyaktighet og leverer konsistent ytelse gjennom hele levetiden.

Grafitt, med sin unike kombinasjon av egenskaper, har et enormt potensial for et bredt spekter av bruksområder. Imidlertid begrenser dens iboende svakhet ofte bruken. CVD TaC-belegg endrer spillet, danner en utrolig sterk binding med grafittsubstrater, og skaper et synergistisk materiale som kombinerer det beste fra begge verdener: den høye termiske og elektriske ledningsevnen til grafitt med den eksepsjonelle hardheten, slitestyrken og kjemisk treghet til CVD. TaC beleggsdeksel.

Raske temperatursvingninger i epitaksereaktorer kan skape kaos på materialer, forårsake sprekker, vridninger og katastrofal svikt. CVD TaC-beleggdekselet har imidlertid en bemerkelsesverdig termisk støtmotstand, i stand til å motstå raske oppvarmings- og avkjølingssykluser uten å kompromittere deres strukturelle integritet. Denne motstandskraften stammer fra CVD TaC Coating Covers unike mikrostruktur, som muliggjør rask ekspansjon og sammentrekning uten å generere betydelige indre påkjenninger.

Fra etsende syrer til aggressive løsemidler kan den kjemiske slagmarken være nådeløs. CVD TaC Coating Cover står imidlertid fast, og viser bemerkelsesverdig motstand mot et bredt spekter av kjemikalier og etsende midler. Denne kjemiske tregheten gjør den til et ideelt valg for applikasjoner innen kjemisk prosessering, olje- og gassleting og andre industrier der komponenter rutinemessig blir utsatt for tøffe kjemiske miljøer.

Tantalkarbid (TaC) Belegg på et mikroskopisk tverrsnitt

Andre nøkkelapplikasjoner i epitaksiutstyr:

Susceptorer og waferbærere:Disse komponentene holder og varmer opp underlaget under epitaksial vekst. CVD TaC-belegg på susceptorer og waferbærere gir jevn varmefordeling, forhindrer substratforurensning og øker motstanden mot vridning og nedbrytning forårsaket av høye temperaturer og reaktive gasser.

Gassinjektorer og dyser:Disse komponentene er ansvarlige for å levere presise strømmer av reaktive gasser til substratoverflaten. CVD TaC-belegg forbedrer deres motstand mot korrosjon og erosjon, og sikrer konsistent gasslevering og forhindrer partikkelforurensning som kan forstyrre krystallvekst.

Kammerforinger og varmeskjold:De indre veggene til epitaksereaktorer er utsatt for intens varme, reaktive gasser og potensiell avsetning. CVD TaC-belegg beskytter disse overflatene, forlenger deres levetid, minimerer partikkelgenerering og forenkler rengjøringsprosedyrer.