Monokrystallinske silisiumskiver

I produksjonen avmonokrystallinske silisiumskiver, Czochralski (CZ)-metoden brukes til å produsere monokrystallinske silisiumstaver med fullstendig struktur og ekstremt lav urenhet

innhold. Deretter gjennomgår disse monokrystallinske silisiumstavene presis prosessering som kutting, sliping, polering og rengjøring for å lages til monokrystallinske silisiumskiver. Disse monokrystallinske silisiumskivene har høy renhet, spesielt waferen på IC-nivået, som kan nå over 9N (99,9999999%), effektivt og sikrer utmerket elektrisk ytelse.

Monokrystallinsk silisium opptar mer enn 90 % av markedet for halvledermaterialer. Det er for tiden det viktigste halvledermaterialet, mye brukt i informasjonsteknologi og integrerte kretsproduksjonsindustrier.

Bruksområder:

1. høyytelses logiske brikker (som CPU、GPU、FPGA),  minnebrikker (som DRAM、NAND Flash), analoge brikker (som ADC og DAC) i industrien for integrerte kretser.

2. High-end elektroniske enheter (som CMOS-bildesensorer (CIS) og MEMS-sensorer) i informasjonsteknologiindustrien.

Wafer spesifikasjon:

Semicorex leverer tilpassede tjenester for sine kunder og kan tilpasse wafere med forskjellig resistivitet, oksygeninnhold, tykkelse og andre spesifikasjoner i henhold til de spesifikke behovene til ulike kunder. For å hjelpe kunder med å løse en rekke problemer som oppstår gjennom hele produksjonsprosessen, tilbyr vi også ekspert teknisk støtte og ettersalgsservice.