Produkter

Semicorex sin waferholder for ICP Etching Process er det perfekte valget for krevende waferhåndtering og tynnfilmavsetningsprosesser. Produktet vårt har overlegen varme- og korrosjonsmotstand, jevn termisk jevnhet og optimale laminære gassstrømningsmønstre for konsistente og pålitelige resultater.

Semicorex sin ICP Silicon Carbon Coated Graphite er det ideelle valget for krevende waferhåndtering og tynnfilmavsetningsprosesser. Produktet vårt har overlegen varme- og korrosjonsmotstand, jevn termisk jevnhet og optimale laminære gassstrømningsmønstre.

Velg Semicorex sitt ICP Plasma Etching System for PSS Process for epitaksi og MOCVD-prosesser av høy kvalitet. Produktet vårt er utviklet spesielt for disse prosessene, og tilbyr overlegen varme- og korrosjonsbestandighet. Med en ren og glatt overflate er bæreren vår perfekt for håndtering av uberørte oblater.

Semicorex sin ICP Plasma Etching Plate gir overlegen varme- og korrosjonsbestandighet for waferhåndtering og tynnfilmavsetningsprosesser. Produktet vårt er konstruert for å tåle høye temperaturer og hard kjemisk rengjøring, noe som sikrer holdbarhet og lang levetid. Med en ren og glatt overflate er bæreren vår perfekt for håndtering av uberørte oblater.

Leter du etter en pålitelig waferbærer for etseprosesser? Se ikke lenger enn Semicorex sin silisiumkarbid ICP Etching Carrier. Produktet vårt er konstruert for å tåle høye temperaturer og hard kjemisk rengjøring, noe som sikrer holdbarhet og lang levetid. Med en ren og glatt overflate er bæreren vår perfekt for håndtering av uberørte oblater.

Semicorex sin SiC-plate for ICP-etsingsprosess er den perfekte løsningen for høye temperaturer og tøffe krav til kjemisk prosessering i tynnfilmavsetning og waferhåndtering. Produktet vårt har overlegen varmebestandighet og jevn termisk jevnhet, noe som sikrer konsistent epi-lagtykkelse og motstand. Med en ren og glatt overflate gir vårt høyrente SiC-krystallbelegg optimal håndtering av uberørte wafere.