Semicorex SiC-belagte Wafer Disc representerer et ledende fremskritt innen halvlederproduksjonsteknologi, og spiller en viktig rolle i den komplekse prosessen med fremstilling av halvledere. Konstruert med omhyggelig presisjon, er denne platen laget av overlegen SiC-belagt grafitt, og gir enestående ytelse og holdbarhet for silisiumepitaksiapplikasjoner. Vi i Semicorex er dedikert til å produsere og levere høyytelses SiC-belagt Wafer Disc som kombinerer kvalitet med kostnadseffektivitet.
Grunnlaget for Semicorex SiC-belagte Wafer Disc består av høykvalitets grafitt, ekspert belagt med Chemical Vapor Deposition (CVD) SiC. Denne avanserte konstruksjonen gir eksepsjonell motstand mot termiske støt og kjemisk nedbrytning, og forlenger den SiC-belagte Wafer Disc's levetid betydelig og sikrer pålitelig ytelse gjennom hele halvlederfremstillingsprosessen.
Spesielt utmerker den SiC-belagte Wafer Disc seg i termisk ledningsevne, noe som er avgjørende for effektiv varmeavledning under halvlederproduksjon. Denne funksjonen minimerer termiske gradienter over waferoverflaten, og fremmer jevn temperaturfordeling som er avgjørende for å oppnå de ønskede halvlederegenskapene.
SiC-belegget gir robust beskyttelse mot kjemisk korrosjon og termisk sjokk, og opprettholder integriteten til den SiC-belagte Wafer Disc selv i tøffe prosessmiljøer. Denne økte holdbarheten resulterer i lengre driftslevetid og redusert nedetid, noe som bidrar til økt produktivitet og kostnadseffektivitet i anlegg for halvlederfabrikasjon.
Dessuten kan den SiC-belagte Wafer Disc skreddersys for å møte spesifikke krav og preferanser. Vi tilbyr tilpasningsalternativer som spenner fra størrelsesjusteringer til variasjoner i beleggtykkelse, noe som gir designfleksibilitet som optimerer ytelsen på tvers av ulike applikasjoner og prosessparametere.