SiC Susceptor for ICP Etch

Semicorex SiC Susceptor for ICP Etch er produsert med fokus på å opprettholde høye standarder for kvalitet og konsistens. De robuste produksjonsprosessene som brukes til å lage disse susceptorene sikrer at hver batch oppfyller strenge ytelseskriterier, og gir pålitelige og konsistente resultater i halvlederetsing. I tillegg er Semicorex utstyrt for å tilby raske leveringsplaner, noe som er avgjørende for å holde tritt med de raske omløpskravene til halvlederindustrien, og sikre at produksjonstidslinjer overholdes uten å gå på kompromiss med kvaliteten. Vi i Semicorex er dedikert til å produsere og levere høy ytelse SiC Susceptor for ICP Etch som kombinerer kvalitet med kostnadseffektivitet.**

Send forespørsel

produktbeskrivelse

Semicorex SiC Susceptor for ICP Etch er kjent for sin utmerkede termiske ledningsevne, som muliggjør rask og jevn varmefordeling over overflaten. Denne funksjonen er avgjørende for å opprettholde en jevn temperatur under etseprosessen, og sikrer høy presisjon i mønsteroverføring. I tillegg minimerer SiCs lave termiske ekspansjonskoeffisient dimensjonsendringer under varierende temperaturer, og opprettholder dermed strukturell integritet og støtter presis og jevn materialfjerning.

En av de fremtredende egenskapene til SiC Susceptor for ICP Etch er deres motstand mot plasmapåvirkning. Denne motstanden sikrer at susceptoren ikke brytes ned eller eroderes under de tøffe forholdene ved plasmabombardement, som er vanlig i disse etseprosessene. Denne holdbarheten øker påliteligheten til etseprosessen og bidrar til produksjon av rene, veldefinerte etsemønstre med minimal defekt.

SiC Susceptor for ICP Etch er iboende motstandsdyktig mot korrosjon av sterke syrer og alkalier, som er en essensiell egenskap for materialer som brukes i ICP-etsemiljøer. Denne kjemiske motstanden sikrer at SiC Susceptor for ICP Etch opprettholder sine fysiske og mekaniske egenskaper over tid, selv når de utsettes for aggressive kjemiske reagenser. Denne holdbarheten reduserer behovet for hyppig utskifting og vedlikehold, og reduserer dermed driftskostnadene og øker oppetiden til anlegg for halvlederfabrikasjon.

Semicorex SiC Susceptor for ICP Etch kan konstrueres nøyaktig for å møte spesifikke dimensjonskrav, som er en kritisk faktor i halvlederproduksjon der tilpasning ofte er nødvendig for å imøtekomme ulike waferstørrelser og prosesseringsspesifikasjoner. Denne tilpasningsevnen gir bedre integrasjon med eksisterende utstyr og prosesslinjer, og optimaliserer den generelle effektiviteten og effektiviteten til etseprosessen.