TaC-belagte Graphite Wafer Susceptorer

Med den kontinuerlige utviklingen av moderne halvlederproduksjonsprosesser, har kravene til epitaksiale wafere når det gjelder filmensartethet, krystallografisk kvalitet og prosessstabilitet blitt stadig strengere. Av denne grunn, bruk av høy ytelse og holdbarTaC-belagt grafitt wafer susceptoreri produksjonsprosessen er viktig for å sikre stabil avsetning og epitaksial vekst av høy kvalitet.

Fordelene med Semicorex TaC-belagt grafitt wafer susceptorer

1. Utmerket materialvalg

(1) Matrisemateriale

Semicorex brukte førsteklasses høy renhetgrafittsom matrisen av wafer-susceptorer, som gir overlegen varmeledningsevne, motstand mot høye temperaturer, samt mekanisk styrke og hardhet. Dens termiske ekspansjonskoeffisient er svært matchet med TaC-belegget, og sikrer effektivt fast vedheft og hindrer belegget i å flasse eller flaske.

(2) Beleggmateriale

Tantalkarbid er høytytende materiale med ekstremt høyt smeltepunkt (omtrent 3880 ℃), utmerket varmeledningsevne, overlegen kjemisk stabilitet og enestående mekanisk styrke. De spesifikke ytelsesparametrene er som følger:

2. Eksepsjonell beleggsytelse

Semicorex bruker toppmoderne CVD-teknologi for å feste jevnt og fastTaC beleggtil grafittmatrisen, noe som effektivt reduserer risikoen for sprekker eller avskalling av belegg forårsaket av høye temperaturer og kjemiske korrosjonsdriftsforhold. I tillegg oppnår Semicorex sin presisjonsbehandlingsteknologi flathet på nanometernivå for TaC-belagte grafittwafer-susceptorer, og deres beleggstoleranser kontrolleres på mikrometernivå, noe som gir optimale plattformer for epitaksial avsetning av wafer.

3. Rengjøringsnivå i halvlederkvalitet

Grafittmatriser kan ikke brukes direkte i prosesser som Molecular Beam Epitaxy (MBE), Chemical Vapor Deposition (CVD) og Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD). Påføring av TaC-belegg unngår effektivt forurensning av waferen forårsaket av reaksjonen mellom grafittmatrisen og kjemikalier, og forhindrer dermed innvirkning på den endelige avsetningsytelsen. For å sikre renslighet på halvledernivå i reaksjonskammeret, gjennomgår hver Semicorex TaC-belagt grafittwafer-susceptor som må være i direkte kontakt med halvlederwafere ultralydsrensing før vakuumpakking.