TaC Coating Upper Halfmoon

Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon er en spesialdesignet komponent som er skreddersydd for å oppnå høyeffektive epitaksiale prosesser innen halvlederproduksjon.

TaC-belegget gir utmerket motstand mot høye temperaturer, noe som gjør TaC Coating Upper Halfmoon ideell for de krevende termiske miljøene i epitaksiale prosesser. Dette sikrer konsistent ytelse og lang levetid, og reduserer hyppigheten av utskiftninger og nedetid. TaC Coating Upper Halfmoon tåler etsende gasser og kjemikalier som vanligvis brukes i epitaksial vekst, beskytter integriteten til komponenten og opprettholder renheten i prosessen.

Det glatte og jevne TaC-belegget forbedrer kvaliteten på epitaksiale lag ved å minimere defekter og urenheter. Dette bidrar til høyere ytelsesrater og overlegne elektroniske egenskaper til halvlederenhetene. Kombinasjonen av termisk og kjemisk motstand forlenger levetiden til TaC Coating Upper Halfmoon, og gir en kostnadseffektiv løsning for å opprettholde høy gjennomstrømning og effektivitet i halvlederproduksjon.

Søknader:

Høytemperatur-kjemiske dampavsetningsprosesser (CVD).

Silisiumkarbid (SiC) og galliumnitrid (GaN) epitaksi

Tekniske spesifikasjoner:

Materiale: Tantalkarbid (TaC) belegg

Temperaturområde: Opptil 2200°C

Kjemisk motstand: Utmerket mot HF, HCl og andre etsende gasser

Dimensjoner: Kan tilpasses for å passe spesifikke reaktormodeller

Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon er en essensiell komponent for å oppnå epitaksiale lag av høy kvalitet med forbedret effektivitet og redusert forurensningsrisiko. Dens avanserte materialegenskaper og presise konstruksjon gjør den til en verdifull ressurs i halvlederindustrien, og støtter produksjonen av neste generasjons elektroniske enheter.