Semicorex sin ICP-etsewaferholder er den perfekte løsningen for høytemperatur-waferhåndteringsprosesser som epitaksi og MOCVD. Med en stabil oksidasjonsmotstand ved høye temperaturer på opptil 1600°C, sikrer våre bærere jevne termiske profiler, laminære gassstrømningsmønstre og forhindrer forurensning eller diffusjon av urenheter.
Les merSend forespørselHvis du trenger en grafittsusceptor med eksepsjonell termisk ledningsevne og varmefordelingsegenskaper, trenger du ikke lete lenger enn Semicorex Inductively Heated Barrel Epi System. SiC-belegget med høy renhet gir overlegen beskyttelse i høye temperaturer og korrosive miljøer, noe som gjør det til det ideelle valget for bruk i halvlederproduksjonsapplikasjoner.
Les merSend forespørselMed sin eksepsjonelle termiske ledningsevne og varmefordelingsegenskaper er Semicorex Barrel Structure for Semiconductor Epitaxial Reactor det perfekte valget for bruk i LPE-prosesser og andre halvlederproduksjonsapplikasjoner. SiC-belegget med høy renhet gir overlegen beskyttelse i høye temperaturer og korrosive miljøer.
Les merSend forespørselSemicorex silisiumkarbidbelagt grafittfat er det perfekte valget for halvlederproduksjonsapplikasjoner som krever høy varme- og korrosjonsbestandighet. Dens eksepsjonelle varmeledningsevne og varmefordelingsegenskaper gjør den ideell for bruk i LPE-prosesser og andre høytemperaturmiljøer.
Les merSend forespørselSemicorex Silicon Carbide Coated Barrel Susceptor er et grafittprodukt av høy kvalitet belagt med høyrent SiC, som tilbyr eksepsjonell varme- og korrosjonsbestandighet. Den er spesielt utviklet for LPE-applikasjoner i halvlederproduksjonsindustrien.
Les merSend forespørsel