Silisium etseringer

Silisium-etseringer er de essensielle komponentene i plasmaetsekammeret til CCP/ICP-etseutstyr og er vanligvis plassert rundt halvlederplaten. Deres primære funksjoner er å støtte halvlederwaferen, opprettholde jevn plasmadistribusjon, beskytte waferkanten og dermed bidra til å skape optimale driftsforhold for plasmaetseprosessen.

Fordeler med Semicorex silisium etseringer

1. Premium materialvalg

Semicorex silisium etseringer er produsert av den nøye utvalgte høyrenhet MCZmonokrystallinsk silisium, som tilbyr følgende utmerkede egenskaper i forhold til konvensjonelt CZ monokrystallinsk silisium.

Høy renhet: Renheten er over 99,9999999 %, noe som betyr at Semicorex silisium-etseringer nesten ikke inneholder urenheter. Denne ultrahøye renheten kan effektivt unngå interferens fra urenheter fra komponenter under etseprosessen, og garanterer dermed høy etsingpresisjon.

Stabil struktur: MCZ monokrystallinsk silisium har en overlegen krystallstruktur med lavere defekter enn vanlig CZ monokrystallinsk silisium. Denne stabile krystallstrukturen gir Semicorex silisiumetseringer forbedret korrosjonsmotstand mot plasmakorrosjon og gjør dem i stand til å motstå tøffe driftsforhold for etsing.

Utmerket resistivitetsuniformitet:Semicorex silisium etseringerleverer eksepsjonell motstandsuniformitet med RRG < 5 %. Lav oppløsning (<0,02 Ω·cm), mellomoppl. (0,2–25 Ω·cm), høy oppløsning. (>100 Ω·cm). Denne utmerkede resistivitetsuniformiteten kan minimere ujevn plasmadistribusjon forårsaket av for høy eller lav resistivitet, noe som bidrar til et ideelt elektrisk felt for plasmaetsing med høy presisjon.

2. Presisjonsbehandling og streng kvalitetskontroll

Semicorex har et erfarent teknisk team som kan tilby personlig tilpasning og tekniske evalueringer for våre verdsatte kunder, og har også etablert systematiske prosess- og inspeksjonsprosedyrer for å garantere produktkvalitet.

Fleksible tilpasningstjenester: Semicorex støtter tilpasning basert på kundetegninger, og den maksimale tilpassede diameteren på silisiumetseringer kan være opptil 470 mm.

Høystandard overflatebehandling: Poleringspresisjon kan kontrolleres strengt innenfor Ra < 0,1 µm, og finsliping oppnår en overflatefinish på Ra > 0,1 µm.

Streng kvalitetskontroll: Dimensjonsmåling, resistivitetstesting og visuell inspeksjon vil bli tatt for å sikre at silisiumetseringer er fri for spon, riper, sprekker, flekker og andre defekter.