Wafer Holder

Semicorex waferholder er en kritisk komponent i halvlederproduksjon og spiller en nøkkelrolle i å sikre nøyaktig og effektiv håndtering av wafere under epitaksiprosessen. Vi er fast forpliktet til å tilby produkter av høyeste kvalitet til konkurransedyktige priser og ser frem til å starte en bedrift med deg.*

Send forespørsel

produktbeskrivelse

Semicorex Wafer Holder er genialt konstruert med en kjerne laget av høyrent grafitt og omhyggelig belagt med silisiumkarbid (SiC) for å møte de krevende kravene til Liquid Phase Epitaxy (LPE) utstyr. Dens konstruksjon og materialvalg er helt avgjørende for å opprettholde integriteten til wafere under høytemperaturprosessene som er iboende i halvlederproduksjon.

Den SiC-belagte grafittwaferholderen viser enestående motstand mot slitasje, en viktig egenskap for å opprettholde de nøyaktige dimensjonene og overflatekvaliteten som kreves for optimal waferhåndtering. I LPE-prosesser er integriteten til waferholderens overflate avgjørende, ettersom enhver degradering eller ujevnhet kan resultere i defekter i waferen, noe som fører til lavere utbytte og økt avfall. SiC-belegget sikrer at waferholderen opprettholder en jevn, stabil overflate over gjentatte sykluser, noe som bidrar til den generelle påliteligheten og konsistensen til epitaksiprosessen.

Videre forbedrer SiC-belegget den termiske ytelsen til waferholderen. Silisiumkarbids høye termiske ledningsevne sikrer jevn varmefordeling over waferen under epitaksiprosessen, avgjørende for å forhindre termiske gradienter som kan forårsake vridning eller sprekkdannelse av wafere. Dette garanterer at sluttproduktene oppfyller de strenge kvalitetsstandardene som kreves i halvlederproduksjon. Kombinasjonen av grafittens iboende termiske egenskaper med de ekstra fordelene med SiC-belegget skaper en Wafer Holder som er i stand til å motstå de mest utfordrende termiske miljøene.

Waferholderens design er optimalisert for bruk i LPE-utstyr. Waferholderen er nøyaktig maskinert for å romme wafere sikkert, og minimerer risikoen for bevegelse eller feiljustering under epitaksiprosessen. Denne presisjonen er avgjørende, siden selv den minste endring i waferposisjon kan føre til ujevn avsetning, noe som påvirker ytelsen til halvlederenhetene som produseres. Den SiC-belagte grafittwaferholderen gir den nødvendige stabiliteten, og sikrer at wafere forblir i riktig posisjon gjennom hele prosessen.