Semicorex sin SiC-belagte bærer for ICP Plasma Etching System er en pålitelig og kostnadseffektiv løsning for høytemperatur-waferhåndteringsprosesser som epitaksi og MOCVD. Våre bærere har et fint SiC-krystallbelegg som gir overlegen varmebestandighet, jevn termisk jevnhet og holdbar kjemisk motstand.
Les merSend forespørselSemicorex sin ICP-etsewaferholder er den perfekte løsningen for høytemperatur-waferhåndteringsprosesser som epitaksi og MOCVD. Med en stabil oksidasjonsmotstand ved høye temperaturer på opptil 1600°C, sikrer våre bærere jevne termiske profiler, laminære gassstrømningsmønstre og forhindrer forurensning eller diffusjon av urenheter.
Les merSend forespørselHvis du trenger en grafittsusceptor med eksepsjonell termisk ledningsevne og varmefordelingsegenskaper, trenger du ikke lete lenger enn Semicorex Inductively Heated Barrel Epi System. SiC-belegget med høy renhet gir overlegen beskyttelse i høye temperaturer og korrosive miljøer, noe som gjør det til det ideelle valget for bruk i halvlederproduksjonsapplikasjoner.
Les merSend forespørselMed sin eksepsjonelle termiske ledningsevne og varmefordelingsegenskaper er Semicorex Barrel Structure for Semiconductor Epitaxial Reactor det perfekte valget for bruk i LPE-prosesser og andre halvlederproduksjonsapplikasjoner. SiC-belegget med høy renhet gir overlegen beskyttelse i høye temperaturer og korrosive miljøer.
Les merSend forespørselHvis du leter etter en høyytelses grafittsusceptor for bruk i halvlederproduksjonsapplikasjoner, er Semicorex SiC Coated Graphite Barrel Susceptor det ideelle valget. Dens eksepsjonelle termiske ledningsevne og varmefordelingsegenskaper gjør den til det beste valget for pålitelig og konsistent ytelse i høye temperaturer og korrosive miljøer.
Les merSend forespørselHvis du trenger en grafittsusceptor som kan yte pålitelig og konsekvent i selv de mest krevende høytemperatur- og korrosive miljøer, er Semicorex Barrel Susceptor for Liquid Phase Epitaxy det perfekte valget. Silisiumkarbidbelegget gir utmerket termisk ledningsevne og varmefordeling, noe som sikrer eksepsjonell ytelse i halvlederproduksjonsapplikasjoner.
Les merSend forespørsel