SiC Wafer Susceptorer for MOCVD

Semicorex SiC Wafer Susceptors for MOCVD er et paragon for presisjon og innovasjon, spesielt laget for å lette epitaksial avsetning av halvledermaterialer på wafere. Platenes overlegne materialegenskaper gjør dem i stand til å motstå de strenge betingelsene for epitaksial vekst, inkludert høye temperaturer og korrosive miljøer, noe som gjør dem uunnværlige for høypresisjon halvlederproduksjon. Vi i Semicorex er dedikert til å produsere og levere høyytelses SiC Wafer Susceptorer for MOCVD som kombinerer kvalitet med kostnadseffektivitet.

Send forespørsel

produktbeskrivelse

Kombinasjonen av termisk stabilitet, kjemisk motstand og mekanisk robusthet sikrer at Semicorex SiC Wafer Susceptors for MOCVD har lang levetid, selv under tøffe prosessforhold:

1. Disse SiC Wafer Susceptorene for MOCVD er konstruert for å tåle ekstremt høye temperaturer, ofte over 1500°C, uten nedbrytning. Denne motstandskraften er avgjørende for prosesser som krever langvarig eksponering for høye termiske miljøer. De overlegne termiske egenskapene minimerer termiske gradienter og spenninger i susceptoren, og reduserer dermed risikoen for vridning eller deformasjon under ekstreme prosesseringstemperaturer.

2. SiC-belegget til SiC Wafer Susceptors for MOCVD gir eksepsjonell motstand mot korrosive kjemikalier som brukes i CVD-prosesser, for eksempel halogenbaserte gasser. Denne inertheten sikrer at bærerne ikke reagerer med prosessgasser, og opprettholder dermed integriteten og renheten til de avsatte filmene.

3. Den robuste konstruksjonen til disse SiC Wafer Susceptorene for MOCVD sikrer at de kan motstå de mekaniske påkjenningene ved håndtering og prosessering uten å generere partikler som kan forurense waferen. Ensartetheten til susceptorenes overflate fremmer reproduserbare prosesseringsforhold, som er avgjørende for å produsere halvlederenheter med konsistent ytelse og pålitelighet.

Disse utvidede beskrivelsene fremhever de profesjonelle og tekniske fordelene til SiC Wafer Susceptors for MOCVD i halvleder-CVD-prosesser, og understreker deres unike egenskaper og fordeler ved å opprettholde høye standarder for renhet, ytelse og effektivitet i produksjonsprosessen.