6 tommer SiC-båt

Semicorex 6 Inch SiC Boat er en avansert wafer-bærer designet for å optimalisere ytelsen og effektiviteten til høytemperatur-halvlederbehandling, spesielt for applikasjoner som oksidasjon, diffusjon og andre termiske prosesser. Laget av høykvalitets silisiumkarbid (SiC), tilbyr dette produktet en robust løsning for å holde halvlederskiver under kritiske høytemperaturoperasjoner, og gir overlegen termisk stabilitet, utmerket korrosjonsmotstand og minimal forurensningsrisiko.

6-tommers SiC-båten er produsert med høyrent silisiumkarbid (SiC), et materiale kjent for sine enestående termiske egenskaper, kjemisk motstandsdyktighet og holdbarhet i tøffe miljøer. SiC er mye brukt i halvlederproduksjon på grunn av dets høye smeltepunkt (omtrent 2700 °C), noe som gjør det ideelt for høytemperaturapplikasjoner som waferbehandling i oksidasjons- og diffusjonsovner. Båtens design sikrer utmerket strukturell integritet og jevn varmefordeling, som er avgjørende for å oppnå konsistente resultater i halvlederkrystallvekst, oksidasjon og andre termiske behandlinger.

Nøkkelfunksjoner og fordeler

Høy termisk stabilitet

SiCs eksepsjonelle termiske ledningsevne sikrer at 6-tommers SiC-båten tåler ekstreme temperaturer uten å vri seg eller forringes. Denne egenskapen er spesielt verdifull under oksidasjons- og diffusjonsprosesser, der presis temperaturkontroll er avgjørende for konsistent wafer-behandling.

Utmerket kjemisk motstand

Silisiumkarbids iboende motstand mot kjemisk korrosjon gjør båten ideell for bruk i miljøer der eksponering for aggressive gasser, som oksygen, nitrogen eller andre reaktive elementer, er vanlig. Båten opprettholder sin strukturelle integritet og ytelse i høytemperatur, kjemisk reaktive miljøer, noe som reduserer sannsynligheten for forurensning.

Høy temperatur holdbarhet

6-tommers SiC-båten er konstruert for å yte i temperaturer opp til 1500 °C, et krav for mange høytemperatur-halvlederprosesser, inkludert oksidasjon og diffusjon. Denne høytemperaturtoleransen sikrer lang levetid selv i krevende bruksområder.

Lav forurensningsrisiko

En av de kritiske faktorene i halvlederbehandling er å minimere forurensning av waferoverflaten. SiCs lave urenhetsnivåer og ikke-reaktive natur sikrer at 6-tommers SiC-båten bidrar til et rent og kontrollert miljø, og reduserer dermed risikoen for uønsket forurensning under behandlingen.

Uniform waferstøtte

Utformingen av båten sikrer at wafere støttes jevnt, opprettholder optimal waferinnretting og forhindrer henging eller feiljustering under høytemperaturbehandling. Denne ensartede støtten er avgjørende for å sikre konsistente resultater og forhindre wafer-defekter.

Tilpasningsalternativer

6-tommers SiC-båten kan tilpasses for å passe spesifikke kundekrav, inkludert skreddersydde størrelser, former og konfigurasjoner for forskjellige wafertyper. Enten den brukes til oksidasjon, diffusjon eller andre termiske prosesser, kan båten optimaliseres for kundens spesielle prosessflyt.

Applikasjoner i halvlederproduksjon

6-tommers SiC-båten brukes først og fremst i høytemperatur termiske prosesser i halvlederproduksjon. Den er spesielt effektiv i oksidasjons- og diffusjonsovner, hvor presis kontroll av temperatur og atmosfære kreves for vellykket waferbehandling.

• Oksidasjonsprosess: Under oksidasjonsprosessen blir silisiumskiver utsatt for oksygen ved forhøyede temperaturer for å danne et tynt silisiumdioksydlag på waferoverflaten. 6-tommers SiC-båten sikrer at skivene holdes sikkert og jevnt under denne høytemperaturprosessen, og forhindrer deformasjon eller feiljustering og sikrer jevn vekst av oksidlag.
• Diffusjonsprosess: I diffusjonsprosessen blir dopingmidler introdusert i silisiumplaten for å modifisere dens elektriske egenskaper. SiC-båten gir stabil og pålitelig støtte for skivene under dette kritiske trinnet, hvor høye temperaturer og presis kontroll av diffusjonsmiljøet er avgjørende. Den utmerkede termiske stabiliteten sikrer jevn oppvarming, noe som er avgjørende for å oppnå ønsket dopingprofil.
• Andre høytemperaturapplikasjoner: Utover oksidasjon og diffusjon kan 6-tommers SiC-båten brukes i andre høytemperaturprosesser, som utglødning, nitridering og epitaksial vekst. Dens høye termiske ledningsevne og motstand mot termisk sjokk gjør den til en allsidig løsning for ulike stadier av fremstilling av halvlederenheter.

Fordeler fremfor andre materialer

Sammenlignet med tradisjonelle materialer som kvarts eller grafitt, gir silisiumkarbid betydelige fordeler i halvlederproduksjon. Kvartsbåter er mer utsatt for termisk sjokk og kjemiske reaksjoner, mens grafittbåter kan avgass og introdusere forurensning. SiC-båter, derimot, opprettholder ytelsen i tøffe miljøer uten risiko for forurensning, termisk ustabilitet eller nedbrytning. Dette gjør 6-tommers SiC-båten til et mer pålitelig og effektivt valg for høytemperatur-halvlederbehandling.

Semicorex 6-tommers SiC-båt er en kritisk komponent i halvlederindustrien, og gir den nødvendige stabiliteten, kjemiske motstanden og den termiske ytelsen som kreves for avansert wafer-behandling. Dens høye varmeledningsevne, motstand mot kjemisk korrosjon og minimal forurensningsrisiko gjør den til det ideelle valget for oksidasjon, diffusjon og andre høytemperatur-halvlederprosesser. Enten den brukes i forskning og utvikling eller storskala produksjon, leverer 6-tommers SiC-båt ytelsen og påliteligheten som er nødvendig for å sikre resultater av høyeste kvalitet i halvlederproduksjon.