Kammerlokk i silisiumkarbid

Silisiumkarbidkammerlokk som brukes i krystallvekst og prosessering av waferhåndtering må tåle høye temperaturer og hard kjemisk rengjøring. Semicorex er en storskala produsent og leverandør av silisiumkarbidbelagt grafittsusceptor i Kina. Våre produkter har en god prisfordel og dekker mange av de europeiske og amerikanske markedene. Vi ser frem til å bli din langsiktige partner.

Send forespørsel

produktbeskrivelse

Silisiumkarbidkammerlokk som brukes i enkeltkrystallvekst eller MOCVD, eller prosessering av waferhåndtering må tåle høye temperaturer og hard kjemisk rengjøring. Semicorex leverer høyrent silisiumkarbid (SiC)-belagt grafittkonstruksjon gir overlegen varmebestandighet, jevn termisk ensartethet for konsistent epi-lagtykkelse og motstand, og holdbar kjemisk motstand. De er holdbare til å oppleve en kombinasjon av flyktige forløpergasser, plasma og høy temperatur.
Vårt silisiumkarbidkammerlokk er designet for å oppnå det beste laminære gassstrømningsmønsteret, og sikrer jevn termisk profil. Dette bidrar til å forhindre forurensning eller diffusjon av urenheter, og sikrer epitaksial vekst av høy kvalitet på waferbrikken.
Kontakt oss i dag for å lære mer om vårt silisiumkarbidkammerlokk.

Parametre for silisiumkarbidkammerlokk

Hovedspesifikasjoner for CVD-SIC belegg
SiC-CVD-egenskaper
Krystallstruktur	FCC β-fase
Tetthet	g/cm³	3.21
Hardhet	Vickers hardhet	2500
Kornstørrelse	μm	2~10
Kjemisk renhet	%	99.99995
Varmekapasitet	J kg-1 K-1	640
Sublimeringstemperatur	℃	2700
Feleksural styrke	MPa (RT 4-punkts)	415
Youngs modul	Gpa (4pt bøy, 1300 ℃)	430
Termisk ekspansjon (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Termisk ledningsevne	(W/mK)	300