Plasmabehandlingsfokusring

Vår plasmabehandlingsfokusring er svært stabil for RTA, RTP eller tøff kjemisk rengjøring, noe som gjør dem til et ideelt valg for bruk i plasma-etsing (eller tørt etsing) kamre. Fokusringene eller kantringene våre er designet for å forbedre etsningens jevnhet rundt waferkanten eller omkretsen, og er konstruert for å minimere forurensning og uplanlagt vedlikehold.

Vår SiC Coating er et tett, slitesterkt silisiumkarbidbelegg med høye korrosjons- og varmebestandige egenskaper samt utmerket varmeledningsevne. Vi påfører SiC i tynne lag på grafitten ved å bruke prosessen med kjemisk dampavsetning (CVD). Dette sikrer at våre SiC Focus Rings har overlegen kvalitet og holdbarhet, noe som gjør dem til et pålitelig valg for dine behov for plasmaetsing.

Kontakt oss i dag for å lære mer om vår fokusring for plasmabehandling.

Parametre for plasmabehandlingsfokusring

Funksjoner ved plasmabehandlingsfokusring

- CVD silisiumkarbidbelegg for å forbedre levetiden.

- Termisk isolasjon laget av høyytelses renset stivt karbon.

- Karbon/karbon komposittvarmer og plate. - Både grafittsubstratet og silisiumkarbidlaget har høy varmeledningsevne, og utmerkede varmefordelingsegenskaper.

- Grafitt- og SiC-belegg med høy renhet for pinhole-motstand og lengre levetid