Porøs sic chuck

Semikorex porøs Sic chuck er en keramisk del som er samlet med presisjon for sikker, effektiv håndtering av wafer -underlag for halvlederapplikasjoner gjennom prosesstrinn som inspeksjon, testing og litografi. Chuck er produsert av mikro-porøs silisiumkarbidkeramikk (SIC). SIC har mekanisk styrke, kjemisk motstand og termiske stabilitetsegenskaper som er nødvendige for banebrytende halvlederproduksjonsmiljøer.

Et essensielt kjennetegn ved den porøse Sic Chuck er dens unike mikrostruktur, som viser en porøsitet på 35%-40%. Med porøsiteten til chuck tett kontrollert, tillater den overliggende designen vakuumsug å bli jevnt utleveres over chuck som genererer jevn stabil og ikke-kontakt støtte for typisk delikate wafer-underlag: silisium eller GaN, og andre sammensatte halvledere.  Vakuumsugemodus unngår både partikkelforurensning og mekanisk skade, og bevarer dermed skiveintegritet under prosessen.

Den keramiske kroppen til Chuck er først og fremst SIC med høy renhet, med annen keramikk, for eksempel aluminiumoksyd (AL2O3), potensielt brukt til et begrenset antall funksjonelle lag avhengig av applikasjonen. Forskning og utvikling av materialet gjør at porestørrelsen og distribusjonen kan styres for å designe luftstrøm og holdekraft avhengig av skivestørrelser og prosessforhold. Hvis det er viktig å kontrollere vakuumet på tynnere skiver, vil mindre porestørrelse bli integrert. For raskere strømningshastigheter der det er aktuelt, vil den større porestørrelsen bli brukt.

Porøse SiC -chucks viser fargevariasjon som et resultat av de variable porestørrelsene, keramiske komposisjoner og skyteforhold. SiC-chucks har en tendens til å være svart eller mørkegrå ettersom fargen på silisiumkarbid er enten grå eller svart, men chucks med stort aluminiumoksydinnhold har en tendens til å være off-white i fargen. Variansene i farger har ingen effekt på ytelsen til produktet og representerer bare de konstruerte egenskapene som ble opprettet for spesifikke applikasjoner for å overholde spesifikke kundebehov.

I high-end Wafer-prosesseringsverktøy er termisk stabilitet og kjemisk inerthet de to viktigste funksjonene. Silisiumkarbid gir utmerket motstand mot korrosjonsgasser og termisk sykling. Den porøse Sic Chuck fungerer vellykket i vakuumkamre og plasma -etseverktøy, og den fortsetter å prestere godt med raskt skiftende temperaturer. Deres evne til å opprettholde den dimmensjonale stabiliteten til chuck sikrer at skiven forblir på samme sted, selv om nøyaktighetskravene kan være under sub-mikron avhengig av prosessen som bidrar til den dimensjonale stabiliserte, sikrer nøyaktighet.

Semikorex porøse SIC -chucks er laget ved hjelp av autoriserte forming og sintringsprosedyrer som gir jevn porøsitet, høy bøyestyrke og lav termisk ekspansjon. Hver chuck blir inspisert for porestruktur, flathet og vakuumytelse for å sikre et pålitelig og repeterbart produkt. Tilpassede design er også tilgjengelige for å imøtekomme spesifikke skivestørrelser og systemintegrasjonskrav, for eksempel baksiden av gasstrømningskanaler eller monteringsfunksjoner.

Avslutningsvis er den porøse SiC -chuck et støtsystem med høy pålitelighet som er nøye designet for å fungere i forbindelse med kravene til presisjonsbehandling. Med en høy vakuumholdsevne, tilpassbar porestruktur og enestående materialstabilitet, er det et uunnværlig produkt i dagens halvlederproduksjonslinjer.