SiC Cantilever Paddle

Semicorex SiC (Silicon Carbide) Cantilever Paddle er en avgjørende komponent som brukes i halvlederproduksjonsprosesser, spesielt i diffusjons- eller LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition) ovner under prosesser som diffusjon og RTP (Rapid Thermal Processing). Det tjener formålet med å støtte og transportere wafere i prosessrøret til disse ovnene.

Semicorex SiC Cantilever Paddle er primært sammensatt av silisiumkarbid, et robust og termisk stabilt materiale kjent for sin motstand mot høye temperaturer og utmerkede mekaniske egenskaper. SiC er valgt for sin evne til å tåle de tøffe forholdene i høytemperaturprosessmiljøene i halvlederovner. Utformingen av SiC Cantilever Paddle lar den strekke seg inn i prosessrøret til ovnen mens den er godt forankret i den ene enden utenfor røret. Denne utformingen sikrer stabilitet og støtte for skivene som behandles samtidig som interferens med det termiske miljøet inne i ovnen minimeres.

SiC Cantilever Paddle skal bære halvlederskiver sikkert inne i prosessrøret under forskjellige høytemperaturprosesser som diffusjon og RTP. Dens robuste konstruksjon sikrer at den tåler ekstreme temperaturer og kjemiske miljøer som oppstår under disse prosessene uten nedbrytning eller feil. SiC Cantilever Paddles er designet for å være kompatible med et bredt spekter av halvlederwaferstørrelser og -former som vanligvis brukes i industrien. De kan ofte tilpasses for å imøtekomme spesifikke ovnskonfigurasjoner og prosesskrav.