SiC Fin

Semicorex SiC Fin er en høyytelseskomponent laget avsilisiumkarbidkeramikk, den er designet for bruk i halvlederepitaksi og etsesystemer. Designet som et sirkulært, skiveformet stykke med forskjellige borede hull med forskjellige diametre, er SiC Fin en kritisk komponent for strømningsmønstrede materialer og eksoshåndtering av gasser eller flytende avløp under høytemperatur- eller plasmabehandling. På grunn av sin strukturelle ytelse, utmerkede korrosjonsbestandighet og høye termiske stabilitet, er SiC Fin kritisk for avansert produksjon av halvledere.

SiC Fin er produsert av høy renhetsilisiumkarbidpulver ved hjelp av avanserte formings- og sintringsprosesser. Dermed har den utmerket mekanisk styrke og stabilitet ved høye termiske og kjemiske forhold. De unike fysiske egenskapene til silisiumkarbid som høy hardhet, lav termisk ekspansjon og utmerket kjemisk inerthet gjør at Fin kan være en strukturell komponent i høytemperaturplasma eller reaktive gassmiljøer, som er karakteristiske for EPI- og etseprosesser.

Komponentens skivestruktur, komplett med nøyaktig borede hull, tillater kontrollerte strømmer av gasser og væsker gjennom prosesskamrene. Avhengig av applikasjonen kan hullene konfigureres for å håndtere flyten av biprodukter eller drenering for et rent og stabilt miljø under waferprosessen. I en epitaksi-applikasjon, for eksempel, kan SiC Fin hjelpe til med å styre prosessgasser eller kondensatstrømmer, og derved forbedre filmens jevnhet og minimere partikkelforurensning. I etseverktøy er det effektivt for sikker og effektiv fjerning av reaktive arter og flytende biprodukter som beskytter sårbare kammerkomponenter mot kjemisk nedbrytning.

Hver Semicorex SiC Fin er produsert med svært trange toleranser og polert for å gi utmerket overflateplanhet og dimensjonsnøyaktighet. Denne produksjonspresisjonen sikrer pålitelig ytelse når den er integrert i kompliserte systemer og beholder konsistent funksjonalitet i lange driftsperioder. SiC Fin er kompatibel med alle reaktordesigner og kan spesialproduseres i diameter, tykkelse og hullmønster for å møte kundenes behov. Semicorex kan tilby tilpassede design for å optimalisere ytelsen for prosessvariabler som strømningshastighet, kammergeometri og temperatur.

I tillegg til sin allsidige funksjonalitet, har SiC Fin eksepsjonell holdbarhet og lang levetid sammenlignet med andre materialer. Den er svært motstandsdyktig mot oksidasjon, plasmaerosjon og kjemisk korrosjon, noe som reduserer hyppigheten av utskifting av deler og reduserer nedetiden for systemet. I tillegg tillater den termiske ledningsevnen til silisiumkarbid varmeavledningskapasitet for å håndtere termiske gradienter i enheten, og unngår uønsket vridning eller sprekker under rask temperatursykling.

Semicorex bruker avansertkeramikkprosessering og CVD-belegg for å gi den høyeste renheten og konsistensen til SiC Fin produsert. Hver SiC Fin blir også inspisert for tetthet, mikrostrukturensartethet og overflateperfeksjon for å sikre at den oppfyller de krevende kravene til halvlederindustrien. Dette resulterer i en komponent som har mekanisk integritet og robusthet for stabil, langsiktig drift i ekstreme miljøer.

Semicorex SiC Fin er resultatet av toppmoderne materialvitenskap og ingeniørteknologi. Ikke bare produserer den effektive eksos- og væskestrømmer, men bidrar til renheten og påliteligheten til hele epitaksi- og etsesystemene. Den kombinerer mekanisk styrke, termisk stabilitet og korrosjonslengde for å gi en mer konsistent opplevelse for halvlederbehandlingsapplikasjoner.