SiC fokusringer

Semicorex avanserte SiC-fokusringer med høy renhet er bygget for å tåle de ekstreme miljøene i plasma-etsing- (eller tørretsnings-) kamre. Vi fokuserer på halvlederindustrier som silisiumkarbidlag og epitaksihalvleder. Våre produkter har en god prisfordel og dekker mange av de europeiske og amerikanske markedene. Vi ser frem til å bli din langsiktige partner i Kina.

Send forespørsel

produktbeskrivelse

Semicorex leverer SiC Focus Rings er virkelig stabil for RTA, RTP eller hard kjemisk rengjøring. SiC Focus Ringer eller kantringer er utformet for å forbedre etsningens jevnhet rundt waferkanten eller omkretsen. Minimer kontaminering og uplanlagt vedlikehold med komponenter med høy renhet som er konstruert for belastningen ved plasmaetsingsbehandling. Våre SiC-fokusringer med SiC-belegg er et tett, slitesterkt silisiumkarbidbelegg (SiC). Den har høye korrosjons- og varmebestandighetsegenskaper samt utmerket varmeledningsevne. Vi påfører SiC i tynne lag på grafitten ved å bruke prosessen med kjemisk dampavsetning (CVD).

Parametre for SiC Focus Rings

Hovedspesifikasjoner for CVD-SIC belegg
SiC-CVD-egenskaper
Krystallstruktur	FCC β-fase
Tetthet	g/cm³	3.21
Hardhet	Vickers hardhet	2500
Kornstørrelse	μm	2~10
Kjemisk renhet	%	99.99995
Varmekapasitet	J kg-1 K-1	640
Sublimeringstemperatur	℃	2700
Feleksural styrke	MPa (RT 4-punkts)	415
Youngs modul	Gpa (4pt bøy, 1300 ℃)	430
Termisk ekspansjon (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Termisk ledningsevne	(W/mK)	300

Egenskaper til SiC Focus Rings

- CVD silisiumkarbidbelegg for å forbedre levetiden.

- Termisk isolasjon laget av høyytelses renset stivt karbon.

- Karbon/karbon komposittvarmer og plate. - Både grafittsubstratet og silisiumkarbidlaget har høy varmeledningsevne, og utmerkede varmefordelingsegenskaper.

- Høyrent grafitt- og SiC-belegg for pinhole-motstand og lengre levetid