Sic oksidasjonsrør

Semikorex SIC oksidasjonsrør er konstruert av kermidkeramikk med høy renhet designet for oksidasjon, diffusjon eller annealingsprosesser som vanligvis utføres ved 1600 ° C. Som en del av en SiC -ovn, horisontal eller vertikal, er dette det kontrollerte miljøet som skivene blir oppvarmet i mens de oksideres. Oksidasjonsrørets funksjon er å tilveiebringe et rent, ensartet og stabilt miljø for termisk behandling av silisiumkarbid (SIC) skiver i fremstilling av effektinnretninger og brede bandgap -halvledere, som blenderåpning av den konstante potensielle oksidasjonsprosessen, oksidasjonsrøret fungerer som et forbruksmål for først. Mens kvarts og aluminiumoksydrør ofte finnes nedbrytning over tid gjennom devitrifisering, skjevhet eller kjemisk nedbrytning, har silisiumkarbid eksepsjonell holdbarhet mot termiske støtutfordringer, mekanisk eiendomsforbedring og kjemisk inerthet. Disse faktorene gir silisiumkarbid som et flott alternativ for oksidasjonsrør i miljøer med høy pålitelighet, høye gjennomstrømningsmiljøer.

Ved å bruke avanserte form for forming som kald isostatisk pressing og trykkløs sintring (eller omkrystallisering), produserer semikorex SIC oksidasjonsrør som har en tett, gass-tight og homogen mikrostruktur. Dette gir styrke uten risiko for porøsitet, slik at oksidasjonsprosessen kan fortsette uten forurensning. SIC har veldig høy termisk ledningsevne, noe som gir mulighet for ensartet termisk fordeling til skivebelastningssonen og reduserer dermed termiske gradienter som kan forårsake skjevt skiver eller defekter. Rørets motstand mot syrer, baser og reaktive gasser forhindrer også uønskede kjemiske interaksjoner med skiveoverflaten og også gjennom ovnsmiljøet.

Det kryper ikke, den deformeres ikke. Røret trenger ikke å erstattes etter flere produksjonssykluser-det er langsiktige termiske sykkelmiljøer som ellers vil ødelegge mindre materialer. Derfor betyr ingen høyfrekvente avbrudd lave driftskostnader, og dette holder prosessstrømmen uten forstyrrelser. Dette reduserer også forurensningsrisikoer som lett kan senke ytelsen i neste generasjons halvlederinnretninger der spor urenheter spiller en kritisk rolle. Semicorex produserer både standard og fullt tilpassede rørdimensjoner for enhver ovnplattform og oppskrift som brukes. Indre og ytre diameter, lengde, veggtykkelse og overflatebehandling er alle parametere som kan kreve en justering for å adressere forskjellige spesifikke termiske og mekaniske behov; Fra Laboratory-skala FoU-ovner opp til store produksjonslinjer-i hvert tilfelle hvor røret trenger maskinering, rengjøring og inspeksjon for å garantere ytelse.

Kvalitetskontroll begynner med dimensjonskontroller, tester av materialtetthet og validering av termisk syklus pålitelighet for hvert eneste SIC -oksidasjonsrør. Et sterkt materialsporbarhetssystem logger produktet fra det rå pulverstadiet opp til endelig inspeksjon. Den typen kvalitet gir kundene en jevn hånd i den langsiktige stabiliteten og reproduserbarheten til våre SIC-oksidasjonsrør.

Velg Semicorex, og få en partner i en leverandør som kombinerer avansert keramisk prosjektering med bred prosesskontroll og responsiv teknisk support ved å samarbeide helt fra begynnelsen. Vi lærer om ditt spesifikke ovnsmiljø, prosessbehov og integrasjonsutfordringer, slik at vi kan tilby deg tilpassede løsninger som forbedrer prosessresultatene dine samt oppetid på verktøyet.

Semikorex SIC oksidasjonsrør leverer best mulig termisk ytelse med kjemisk stabilitet og mekanisk styrke. Det blir hjertet til ethvert SIC-prosesseringssystem med høy temperatur ved å gi et enhetlig termisk miljø under oksidasjon og annealing av avanserte halvledermaterialer. For produsenter som trenger ovnkomponenter for å være pålitelige, rene og langvarige, vil semikorex være et produktvalg støttet av kunnskap og erfaring, samt en standard for å levere intet mindre enn det beste.