SiC prosessrør

Semicorex SiC (Silicon Carbide) prosessrør er en spesialisert komponent som brukes i wafer varmebehandlingsprosesser, spesielt i applikasjoner som krever høye temperaturer, korrosive atmosfærer eller begge deler. Den er designet for å gi et beskyttende og kontrollert miljø for halvlederskiver under varmebehandling eller termisk prosessering.

Prosessrøret er nøye konstruert for å lage et forseglet kammer der wafere plasseres for varmebehandling. Den fungerer som en barriere, og forhindrer direkte kontakt av wafere med omgivelsene. Denne isolasjonen er avgjørende for å opprettholde renheten i prosessatmosfæren og beskytte skivene mot forurensning.

Inne i SiC-prosessrøret foregår wafervarmebehandlingen. Dette kan inkludere ulike prosesser som gløding, oksidasjon, diffusjon og andre termiske behandlinger som kreves for å modifisere egenskapene til wafermaterialet. Rørets egenskaper, som dets høye varmeledningsevne og motstand mot kjemisk angrep, bidrar til å sikre jevn temperaturfordeling og beskyttelse av skivene.

SiC prosessrør er kritiske komponenter i wafer varmebehandlingsprosesser. Deres motstand mot høye temperaturer, kjemiske treghet og evne til å skape et kontrollert miljø sikrer vellykket utførelse av termiske prosesstrinn, som fører til produksjon av høykvalitets halvlederskiver.