Sic vertikale båter

Semikorex SIC vertikale båter er konstruerte skivebærere, designet og produsert for å gi den høyeste termiske, mekaniske og kjemiske stabiliteten for vertikal ovn halvlederbehandling. Konstruert av høy renhetSilisiumkarbidVi tror at de er den beste balansen mellom styrke, holdbarhet og renslighet for veldig avansert termisk prosessering av skive, bemerket som oksidasjon, diffusjon, LPCVD og glød i vertikale ovnsystemer.

De vertikale ovnbehandlingsmiljøene krever et støttesystem for skive som tåler gjentatte eksponeringer ved høy temperatur, ofte over 1200 ° C, og forblir dimen-sionalt stabile uten forurensningsproblemer. Sic vertikale båter utmerker seg i sin robusthet i disse situasjonene på grunn av de iboende mekaniske og termiske egenskapene til omkrystallisert eller CVD -silisiumkarbid. Deres ekstremt lave termiske ekspansjonskoeffisient sikrer minimal varpage eller forvrengning på grunn av rask termisk sykling. I tillegg gir den høye termiske ledningsevnen den største lokale temperaturhomogeniteten på tvers av alle skiver, noe som er avgjørende for konsistens i skive-til-vesenet i lagtykkelse, dopingprofiler og elektrisk ytelse; Viktige aspekter ved produksjon med høyt volum i halvlederindustrien.

Sammenlignet med tradisjonelle kvartsbåter, leverer SIC vertikale båter overlegen mekanisk styrke og forlenget levetid. Kvarts har en tendens til å bli sprø og avvike over tid, spesielt i aggressive ovnskjemi, noe som fører til høyere erstatningskostnader og potensielle produksjonsavbrudd. I kontrast opprettholder silisiumkarbid sin integritet selv etter langvarig eksponering for etsende gasser som klor, HCl eller ammoniakk, som er vanlige i forskjellige diffusjons- og LPCVD -prosesser. Den eksepsjonelle slitasje- og oksidasjonsresistens reduserer partikkelgenerering i stor grad, og hjelper til med å ivareta skiveoverflater fra forurensning og dannelse av defekt.

SIC vertikale båter tilbyr også en betydelig fordel når det gjelder ultra-rengjør prosessering. SIC-materiale med høy renhet blir behandlet under streng flid for å redusere identifiserbare spore som forurenser metaller som kan forstyrre de operasjonelle egenskapene til halvlederenheter. SIC vertikale båtoverflater er godt ferdig med rettvinklede funksjoner som minimerer sjansen for at mikropartikler kaster seg. SIC -overflater er kjemisk inerte og reagerer ikke med prosessgasser og er derfor mindre utsatt for forurensning. I denne forbindelse er SIC vertikale båter godt egnet for fronten av linjen (FeOL) og den bakre enden av linjen (BEOL) Wafer -prosesseringsoperasjoner.

SIC vertikale båter tilbyr også designfleksibilitet. Hver vertikal båt kan være designspesifikk for å imøtekomme flere skivediametre (150 mm, 200 mm eller 300 mm skiver), og spalteall og avstand kan brukes til å oppfylle prosessbehov. Presisjonsbearbeiding og dimensjonskontroll muliggjør riktig innretting av skive og støttestøtte som minimerer sannsynligheten for eventuelle mikro-skraper eller stresssprekker under belastning, prosessering og lossing. Hvis overlegen temperaturenhet og / eller mindre termisk masse er nødvendig for en bestemt prosess, kan optimaliserte geometrier og spilleautomater være inkorporert i SIC vertikale båtkonfigurasjoner, uten å ofre noen mekaniske egenskaper.

En annen fordel er vedlikehold og driftseffektivitet. Den stive konstruksjonen avSicVertikale båter reduserer erstatningstid og frekvens, og minimerer dermed nedetid eller eierkostnader. Den termiske sjokkmotstanden til SIC muliggjør kortere oppvarmingssykluser og kjøling for å levere høyere gjennomstrømning på produksjonslinjer. Vedlikehold eller rengjøring av SIC vertikale båter er også veldig enkelt; Materialet kan tåle de fleste konvensjonelle våte- eller renseriprosesser som er vanlige i halvlederfabs som kjemisk rengjøring med syrer og bake-out med høy temperatur.

I denne moderne tid med sofistikert halvlederfremstilling der utbytteforbedring, forurensningskontroll og stabilitet i prosessen har all betydning, gir sic vertikale båter en ekte teknologisk fordel. De håndterer godt de fysiske og kjemiske utfordringene med vertikale ovnsapplikasjoner og bidrar til generell prosessoptimalisering ved å levere wafer -integritet, konsistente resultater og lengre levetid.