Silisiumkarbidvakuum chuck

Semikorex silisiumkarbidvakuum chuck er en viktig del av halvlederproduksjonen for prosesser som trenger høy presisjon og lav forurensning. Vakuum chucks er fremstilt fra porøs porøs silisiumkarbidkeramikk med høy renhet og gir utmerket mekanisk styrke, termisk ledningsevne og kjemisk inerthet, og har en nøyaktig kontrollert porestruktur for pålitelig vakuumretensjon. Silisiumkarbidvakuum chuck er en funksjonell adsorpsjonsanordning laget av et silisiumkarbid (SIC) keramisk materiale, som er avhengig av vakuum undertrykk, elektrostatisk adsorpsjon eller mekanisk klemming for å gi stabilt grep om arbeidsstykket. Vakuum chucks har bruk i halvledere, fotovoltaikk, presis produksjon og andre applikasjoner som har ekstra høye krav til materiell høy temperaturmotstand, slitasje motstand og renslighet.

Basen tilChucker et porøst SIC -materiale, som har en forutsigbar luftpermeanse over overflaten. Dette betyr at det er mulig å trygt adsorbere en skive uten mekanisk klemming og derfor immaterialisere potensialet for fysisk skade eller forurensning av prøven. Porøsiteten til materialet er tett kontrollert - typisk har en porøsitet på 35-40% - for å gi riktig vakuumfordeling, men også oppfylle de strukturelle kravene til holdbar termisk og mekanisk sykling.

Wafer vakuum chuckser vanligvis laget av en hard overflate med mange små hull eller kanaler på overflaten. Gjennom disse små hullene kan chuck kobles til en vakuumpumpe, noe som skaper en vakuumeffekt. Når skiven er plassert på chuck, slås vakuumpumpen på og luft trekkes gjennom de små hullene, og skaper et vakuum mellom skiven og chuck. Denne vakuumeffekten skaper nok sug til å feste skiven til chuckoverflaten.

Keramiske overflater brukes ofte i applikasjoner som krever høy renhet og kjemisk stabilitet. Keramikk er materialer produsert av fusjon av høye temperaturer av mineraler. Generelt sett er keramikk elektriske isolatorer eller halvledere og har høy motstand mot termisk sammenbrudd, erosjon og skade.

Semicorex bygger tilpasset silisiumkarbidvakuum chuck til kundens spesifikasjoner for ting som dimensjoner, porøsitet, overflatebehandling og mønstre for vakuumkanalisering. Som et resultat av våre produksjons- og rene romfunksjoner, tilbyr vi det beste innen lav partikulære skur og renslighet for å imøtekomme renslighetskravene til alle produsenter av halvleder og utstyrsprodusenter.

Vi kan lage en chuck for alle størrelser, fra 2-tommers til 12-tommers wafer og tilpasse for å integrere chuck i en mengde skivebehandlingsutstyr. Det kan brukes til frontprosesser og/eller back-end prosesser, noe som gjør SIC-vakuumet chuck til et økonomisk, presist, stabilt og forurensningsfrie måter for skive støtte i halvleder Fab-arbeidsflyten.

Silisiumkarbidvakuum chuck er et essensielt verktøy i dagens halvlederproduksjon, og kombinerer de beste materialene og prosjektene. Holdbar og adherent pålitelighet gjennom termiske og kjemiske ytterpunkter gjør det til den perfekte støtten i prosessapplikasjoner som inkluderer voksing, tynning, rengjøring og RTA. Ved å anskaffe silisiumkarbidvakuum chuck gjennom semikorex sikrer du den beste materialet renhet, tilpassede løsninger og pålitelig ytelse for overlegne resultater på tvers av alle dine skivebehandlingslinjer.