Kina Keramikk produsenter, leverandører, fabrikk

Semicorex er din partner for forbedring av halvlederbehandling. Våre silisiumkarbidbelegg er tette, høytemperatur- og kjemikaliebestandige, som ofte brukes i hele syklusen av halvlederproduksjon, inkludert halvlederwafer og wafer-behandling og halvlederfabrikasjon.

Høyrente SiC-keramiske komponenter er avgjørende for prosesser i halvlederen. Vårt tilbud spenner fra forbruksdeler til utstyr for prosessering av wafer, slik som silisiumkarbid-waferbåt, cantilever-årer, rør osv. for Epitaxy eller MOCVD.

Fordeler for halvlederprosesser

Tynnfilmavsetningsfasene som epitaksi eller MOCVD, eller waferhåndteringsprosesser som etsing eller ioneimplantat må tåle høye temperaturer og hard kjemisk rengjøring. Semicorex leverer høyrent silisiumkarbid (SiC) konstruksjon gir overlegen varmebestandighet og holdbar kjemisk motstand, jevn termisk ensartethet for konsistent epi-lagtykkelse og motstand.

Kammerlokk →
Kammerlokk som brukes i prosessering av krystallvekst og waferhåndtering må tåle høye temperaturer og hard kjemisk rengjøring.

Cantilever Paddle →
Cantilever Paddle er en avgjørende komponent som brukes i halvlederproduksjonsprosesser, spesielt i diffusjons- eller LPCVD-ovner under prosesser som diffusjon og RTP.

Prosessrør →
Process Tube er en avgjørende komponent, spesielt designet i ulike halvlederbehandlingsapplikasjoner som RTP, diffusjon.

Wafer-båter →
Wafer Boat brukes i halvlederbehandling, den har blitt omhyggelig designet for å sikre at de delikate wafere holdes trygge under de kritiske stadiene av produksjonen.

Innløpsringer →
SiC-belagt gassinntaksring av MOCVD-utstyr Sammensatt vekst har høy varme- og korrosjonsbestandighet, som har stor stabilitet i ekstreme miljøer.

Fokusring →
Semicorex leverer Silicon Carbide Coated fokusring er virkelig stabil for RTA, RTP eller hard kjemisk rengjøring.

Wafer Chuck →
Semicorex ultra-flate keramiske vakuumwafer-chucker er høyrent SiC-belagt ved bruk i waferhåndteringsprosessen.

Semicorex har også keramiske produkter i Alumina (Al2O3), Silisium Nitride (Si3N4), Aluminium Nitride (AIN), Zirconia (ZrO2), Composite Ceramic, etc.